INTERVIEW with Key Person
■富士電機アドバンストテクノロジー CCMをIJ法で作製した2.8型QVGA有機ELDを開発
ピュアブルー発光をR-CCM、G-CCMで色変換し高効率化
SPECIAL FEATURE
■JPCA Show 2008 FPCは薄さと屈曲性が争点に
太陽電池向けでは基板やペーストでWhat's NEWが
CURRENT ARTICLE
■産総研 高純度CNTを用いた高性能トランジスタを開発
分散液から超遠心分離で高純度半導体性SWNTを抽出
■日本マイクロニクス 新コンセプトのTFT用オープンリペア装置を開発
ミストジェットでナノペーストをダイレクトに描画
■産総研 オール印刷法で有機トランジスタを作製
INTERVIEW with Key Man
■青山学院大学 重里研究室 AZO膜をリアテクティブスパッタ法で高速成膜する技術を確立
プラズマ発光強度またはインピーダンス制御でO2流量を制御
■工芸大 星研究室 ローダメージITOスパッタ成膜技術を確立
対向ターゲットスパッタに加えガス圧を高圧化しダメージを抑制
■アルバック 薄膜太陽電池製造システムをポストFPDに
CVD、スパッタ、レーザーパターニングまでの一貫システムを
第5世代基板対応システムは標準で25MWが発電可能
■東大 橋本研究室 ナノZnOで有機太陽電池の特性を改善
PCBMにフッ素化アルキル基をつけた自己組織バッファも提案
■トッキ 有機薄膜太陽電池製造装置を将来の主力製品に
有機EL技術を応用展開し膜厚均一性±2.5％を達成
■ジオマテック 色素増感太陽電池にITO/SnO2系を提案
SnO2によって耐熱性が向上し抵抗値の変化をほぼゼロに
TECHNOLOGY FOCUS
■千葉大 陽極酸化したポーラスアルミナを用いてSITを作製
埋設Alゲートをローコストで作製するメソッドの有力候補に
CLOSE UP THE TREND
■メディア研究所 薄膜太陽電池用AZOターゲットを発売
アーキングがほとんどないためハイレートで成膜可能
| 発行 | 2008年7月1日(月2回発行) |
| 体裁 | B5サイズ |
| 頁数 | 60〜84頁 |
| 購読料 |
1冊総額2,100円(いずれも消費税込み) |
| 販売元 | イー・エクスプレス |
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