トッキ TFT基板用超平坦化・洗浄装置を販売

　トッキは、有機ELディスプレイ向けをはじめとするTFT基板用ポリッシング・洗浄装置「ナノウォッシャー(Nano Washer)」を製品化する。

　Nano Washerは、特殊なポリッシングフィルムとポリッシング液によりTFT基板をポリッシングした直後に高圧ジェット水で洗浄する平坦化・洗浄装置。TFT基板上のITO膜やメタル膜の平坦化や微細な異物の洗浄が可能で、LCD基板の洗浄やカラーフィルターの平坦化にも有効。洗浄剤を使用せず、おもに純水による洗浄のため大規模な排水処理設備が不要なのが特徴となっている。

リンテック FPDフィルム用接着材などの生産能力を増強

　リンテック・グループは半導体関連製品、FPD用光学フィルム関連製品、積層セラミックコンデンサー製造用コートフィルム、炭素繊維プリプレグ用工程紙、各種粘着製品用剥離フィルムなどの生産設備を増強する。

　まず、韓国では昨年9月に設立した「リンテック･コリア(清州市)」に45億円を投じて新工場を建設する。延床面積は1万3000m2で、粘着塗工設備、剥離処理設備をそれぞれ1ライン導入する。半導体・光学・電子部品関連向けの粘着製品、コートフィルム、粘着製品に用いる剥離フィルムを生産する。完成は06年1月の予定。

　また、住友化学のLCD事業の生産増強に合わせ、国内外で粘着塗工設備を増設する。住友化学の工場がある愛媛県新居浜市に「新居浜加工所」を新設し粘着塗工設備1ラインを導入する。また、韓国における住友化学グループの偏光フィルム生産能力増強に合わせ、リンテック･スペシャリティー･フィルムズ(コリア)でも1ラインを増設する。

　その一方、光学関連の主力工場である新宮事業所(兵庫県)にPDPやLCDに使われる光学フィルムの防眩･ハードコート処理などを行う表面改質処理設備を増設する。

　さらに、積層セラミックコンデンサー製造工程で使われるコートフィルムの生産拠点であるリンテック･インダストリーズ(マレーシア)に剥離処理設備を1ライン、国内の剥離紙主力生産拠点である土居加工場(愛媛県)に炭素繊維プリプレグ用工程紙などの生産を行う紙ベース用の剥離処理設備、並びにLCD用などの粘着製品に使用する剥離フィルム用設備をそれぞれ1ライン増設する。

凸版印刷、E Ink カラー電子ペーパーを共同開発

　凸版印刷と米E Inkは、カラーフィルター(CF)を用いたカラー電子ペーパーを共同開発した。試作したのは文庫本に相当する6型パネルで、06年末から07年初めにかけて量産を開始する予定。

　凸版印刷が開発したRGBW構成の専用CFを用いることによって、背景の白さと文字の黒さを両立させてコントラストを高めた。また、反射率の高いインクを用いて12bitカラー表示を実現した。画素数は400×300(83ppi)で、アレイ基板にはa-Si TFT基板を用いた。消費電力は透過型LCDに比べ最大1/100に削減できる。

　デジタルカメラ、キャッシュディスペンサ、マルチメディア店頭端末、GPS端末、電子表示体を見やすく、携帯電話、PDA、無線タブレットの電力消費を低減できるとしている。

日立製作所 日立機電、日立プラント、日立インダストリイズを統合し新会社を設立

　日立製作所、日立プラント建設、日立機電工業、日立インダストリイズは、06年4月1日付で統合合併すると発表した。具体的には、日立製作所の電機グループ社会システム事業部の一部(機械関連システム部門)および産業システム事業部を会社分割により日立プラントに承継させるとともに、日立プラントを存続会社にして日立機電、日立インダストリイズを合併して社名を変更する。

　新会社はこれまで各社に分散していた関連事業を水処理機器・システム、大型ポンプ、圧縮機、変速機などを担当する社会・産業事業本部、LCD基板搬送システム、FPD製造装置、PCB用印刷機などを担当するメカトロニクス事業本部、クリーンルームに代表される産業空調やビル空調などを担当する空調システム事業本部、化学・医薬プラント、食品プラント、化学機器、クレーンなどを担当する産業プラント事業本部、原子力・火力発電設備工事などを担当するエネルギー事業本部の五つの事業本部体制に再編する。

　新会社の社名は未定だが、東京都千代田区に本社をおく。初年度にあたる06年度(07年3月期)は売上高3500億円、営業利益114億円(営業利益率3.3％)を目指す。そして、事業統合効果などにより2010年度は売上高4000億円、営業利益200億円(営業利益率5％)を見込んでいる。

Micronic 最先端レーザー描画装置を受注

　Micronic Laser Systems AB(スウェーデン)は、最先端レーザー描画装置LRSをアジア地区のユーザーから受注したと発表した。TFT-LCD用フォトマスクの製造に使われる。

住友大阪セメント PET1枚のPDP用直貼り光学フィルターを開発

　住友大阪セメントは、PETフィルム1枚ベースのPDP用直貼り光学フィルター「クリアラス　F-Filter(Hybrid-4)」を開発した。

　PETフィルムの表面に反射防止(AR)、裏面に電磁波遮蔽(EMS)層である金属メッシュを形成するとともに、ネオンカット、近赤外線遮蔽(NIRA)機能・色調調整機能を有する粘着剤を金属メッシュ面に付与した。

　この結果、42型換算で従来のガラスレスフィルターに比べ約50％に当たる約100g(保護フィルム、セパレーターフィルムを除く)の軽量化に成功。ガラスタイプの光学フィルターと比較すると約1/40に軽量化した。

　厚さも約0.14�o(保護フィルム、セパレーターフィルムを除く)と従来のガラスレスフィルターの約80％に薄型化した。これは、ガラスタイプの光学フィルターの1/20に当たる。

　現在、光学フィルターの価格は42〜43型で100ドルといわれるが、クリアラスF-Filter(Hybrid-4)は当面70ドル、近い将来50ドル(50ドルフィルター)を目指す。すでにパイオニアをはじめ数社にサンプル出荷中で、06年モデルへの採用を見込んでいる。

ホソカワミクロン 粒度均一性の高い微粒子製造システムを開発

　ホソカワミクロンとホソカワ粉体技術研究所は、高い粒度均一性が実現できる微粒子製造システムを開発した。

　メルトブローン法と呼ばれる紡糸技術をベースにしたもので、粒度分布が高く円柱形や中空円柱状の微粒子が得られる。また、電子写真現像剤トナーをはじめ溶融時に適度な粘性を持つ材料全般、樹脂、ガラスなど従来微粉砕が困難だったものも微粒子化できる。

　06年1月から発売し、年間20億円の受注を見込んでいる。FPD関連では電子ペーパー、PDP、LCD用スペーサーなどに適用可能性があるという。

アルバック機工 宮崎に真空ポンプ工場を集約

　アルバック機工は、鹿児島と宮崎に分散している真空ポンプ工場を宮崎に集約するため、宮崎第3工場で起工式を行った。

　宮崎第3工場は建築面積5800m2で、06年10月に稼働する。投資額は約10億円。宮崎に工場を集約することにより共有面積や共通人員の縮小、生産性向上などによるコストダウンを図る。

AKT 第8世代基板対応プラズマCVD装置を発表

　AKTは、2160×2400mmクラスの第8世代マザーガラス対応のプラズマCVD装置「AKT-50K PECVD」を発表した。第8世代マザーガラスからは52型パネルが6面取りできる。すでにTFT-LCDメーカーから受注済みで、06年初めに1号機を出荷する予定。

　最大5基のプロセスチャンバが搭載可能で、SiNx膜/a-Si膜/nチャネルa-Si膜の3層で30枚/h以上、単層では60枚/h以上が成膜できる。

三井造船 低温Poly-Si TFTのゲート絶縁膜用成膜装置を開発

　三井造船は、低温Poly-Si TFT-LCDのゲート絶縁膜用成膜装置を開発した。370×470�o対応のデモ機を開発したもので、ユーザーを招いての成膜テストを開始した。

　原子層堆積法(ALD: Atomic Layer Deposition)とプラズマCVD法を組み合わせて高品質ゲート酸化膜を形成する装置で、現在採用されている低周波プラズマCVD法で問題となっているプラズマダメージの影響を解決した。具体的には、まずALD法でSi表面に膜厚数nmのSiO2絶縁膜を成膜。続いて、独自開発したモノポール方式プラズマCVD法で必要な厚膜を積層する。モノポール方式プラズマCVD法は、電極の大型化が容易なためガラス基板の大型化にも対応しやすく、プラズマダメージも少ない。デモ機で成膜した絶縁膜の界面準位密度は1×1011/cm2eV以下、絶縁破壊電界は8MV/cmとなっている。

オムロン 超高輝度の携帯電話用バックライトを開発

　オムロンは、輝度2万cd/m2という携帯電話用LCDバックライトを開発した。

　従来は二つのLED素子を集積化していたが、三つに増やすことで輝度を1万cd/m2から2倍に高めた。輝度ユニフォミティは70％で、電流値は25mA。06年夏から量産する予定。

日東電工 白色LED用ナノ粒子YAG蛍光体を開発

　日東電工の米国現地法人、日東電工テクニカルコーポレーションは、白色ELDに使われるYAG(イットリウム・アルミ・ガーネット)蛍光体をナノ化することに成功した。平均粒子径は40nmで、内部量子効率は70％と既存のバルクYAG蛍光体に匹敵する。

　一般的に蛍光体をナノサイズ化すると光変換効率が低下するが、新たに開発した気相法によって光変換効率が低下しないようにした。周知のように、従来のミクロンパウダーは粒子サイズが光の波長よりも大きいため、蛍光が前方の粒子によって後方散乱され光取り出し効率が低下する。こうした後方散乱ロスを低減させる方法として、光散乱が微弱になるナノサイズまで粒子径を微細化するのが有効とされる。今回のナノサイズYAGによって光の散乱が減り、比表面積が向上する結果、白色LEDの発光効率向上が期待できるとしている。

　今後、日東電工グループではYAGナノ蛍光体製造技術をベースに光学機能性ナノ粒子をはじめとする機能性ナノ粒子を開発する予定。

NEC液晶テクノロジー 動画表示特性の高いTFT-LCDを開発

　NEC液晶テクノロジーは、世界最高クラスの動画表示性能を実現した10.4型a-Si TFT-LCDを開発した。放送・医療用のXGA対応広視野角モデル(SFTモデル)と、産業用VGA対応モデル(TNモデル)の2機種で、動画表示性能の指標としてVESA(Video Electronics Standards Association)が標準化を進めているMPRT(Moving Picture Response Time)値で世界最高値を達成した。

　従来の応答速度が液晶材料の応答時間を表しているのに対し、MPRTは動画像表示におけるエッジのぼやけ幅を応答時間に換算したもので、実際の動画視認性との関連性・連動性が高い。

　SFTモデルはパネルの応答速度を従来比約2倍に高速化するとともに、バックライトを間欠点灯させることにより、LCD特有のホールド型表示に起因する動画像のボケを改善した。この結果、広視野角LCDでは世界最高の6msecというMPRT値が得られる。

　一方、TNモデルはTN駆動をベースにしながら応答速度を高速化するとともに、TN方式の課題である中間階調間の応答速度を向上するオーバードライブ駆動を採用。さらに、ホールド型表示に起因する動画像のボケを解消するため、通常の1フレームの描画速度の2倍速に当たる120Hz駆動とバックライトの間欠点灯を実施。この結果、5msecと世界最高のMPRT値を実現した。

TMD LED-BL搭載の薄型軽量ノートPC用11.1型低温Poly-Si TFT-LCDを量産

　東芝松下ディスプレイテクノロジー(TMD)はLEDバックライトを搭載したノートPC用11.1型ワイド低温Poly-Si TFT-LCDを開発、量産を開始した。

　薄型ガラス技術と薄型LEDバックライトを組み合わせることにより、厚さを従来比1/2に当たる2.75mm(最厚部)、重さを約35％減の146gに薄型軽量化した。画素数は1366×768で、輝度は240cd/m2。

三洋エプソン NTSC比100％以上のTFT-LCDを開発

　三洋エプソンイメージングデバイスは、NTSC比100％を超える色再現域技術「Photo Fine Chromarich」を採用した高精細TFT-LCDを開発した。開発したのは2.2型QVGA/2.8型VGAの低温Poly-Si TFT-LCDと4.5型VGA a-Si TFT-LCDの3モデルで、06年初めから量産する。

　Photo Fine Chromarichは、RGBにC(シアン系)を追加した4色カラーフィルターを採用し、白色バックライトとのマッチングを最適化。この結果、従来の中小型LCDで40〜72％だったNTSC比を108％以上に向上。エメラルドグリーンやブルー系の微妙な色再現が可能になった。表示色は低温Poly-Si TFT-LCDが1677万色、a-Si TFT-LCDが26万色となっている。

NEC液晶テクノロジー NTSC比110％のSOG LCDを開発

　NEC液晶テクノロジーは、NTSC比110％という広い再現性を誇る4.1型ワイドVGA(800×480画素)システム・オン・グラス(SOG)TFT-LCDを開発した。06年度上期に稼働するNEC秋田の低温Poly-Si TFT-LCD生産ラインで量産する。

　輝度はこのサイズで最高クラスの400cd/m2を達成。また、モジュールを狭額縁化するとともに、TFTアレイ基板上に周辺回路を一体形成した。

出光興産 世界最高レベルの長寿命青色・緑色有機EL材料を開発

　出光興産は、世界最高レベルに長寿命化した緑色・青色低分子有機EL発光材料を開発した。

　青色発光材料は分子構造を改良し、電流-輝度効率を従来比1.3倍に当たる9cd/Aを達成。輝度半減寿命も22万3000時間(初期輝度1000cd/m2)と従来比約2.3倍を果たした。一方、緑色材料も輝度半減寿命10万時間(初期輝度1000cd/m2)と従来比約2.5倍を達成した。どちらも06年4月からサンプル出荷を開始する予定。

NEC液晶テクノロジー 10bitドライバ搭載の21.3型TFT-LCDを発売

　NEC液晶テクノロジーは、10bitドライバICを搭載した21.3型QXGA TFT-LCD2機種を開発した。

　ハイエンドグラフィック用広色度域モデルは、3月に発売したLEDバックライト搭載TFT-LCD「NL160120BC27-10」に改良を加え、Adobe RGBの色空間をサポートするディスプレイとしては世界最高水準の高精細化を実現した。輝度は250cd/m2で、Adobe RGB比109％という広い色再現性が得られる。さらに、黒輝度レベルを従来モデルの半分に抑え、800:1の高コントラストを達成した。前記のように、10bitドライバICの採用により、RGB1024階調、10億7374万色が同時表示できる。

　一方、医療用高輝度カラーモデルは内視鏡画像やコンピュータ処理画像などのカラー画像を含むPACSビューワ用途とX線画像などのモノクロ表示の読影診断用途を兼用したいというニーズに対応。従来モデルに比べ1割増の高輝度化(500cd/m2)、そして800:1という高コントラストを実現した。10bitドライバICの採用とカスタマイズ可能な12bitのLUTの装備により、カラー表示時には685億色のなかから最適な10億7374万色を、モノクロ表示時には4093階調の中から最適な1024階調を抽出して表示できる。

TMD 回路機能内蔵の低温Poly-Si TFT-LCDを開発

　東芝松下ディスプレイテクノロジー(TMD)は、駆動に必要な回路機能をガラス基板上に集積した2.2型システム・オン・グラス(SOG)LCDを開発した。

　高性能低温poly-Si TFT技術を用いて6ビット階調26万色表示が可能なアナログ回路(DAC、増幅回路)、走査線を駆動するドライバ回路、ドライバ回路用の電源回路、これら回路を制御するコントロール回路といった表示駆動に必要な回路機能をガラス基板上に集積した。解像度は240×320画素のQVGA。

茶谷産業とクラレ 超高輝度の無機EL用青色・白色発光材料を開発

　茶谷産業とクラレは、茶谷産業が発明した超高輝度の無機EL用青色・白色発光材料の共同開発を開始した。

　3〜10Vという低電圧駆動が可能で、輝度も5.5V時で60万cd/m2を達成。また、35万cd/m2で2万5000時間以上発光させても輝度が低下しないという驚異的な長寿命を実現した。組成は明らかにしていないが、ウェットコート法で成膜することができるという。

　まずはTFT-LCDテレビ用バックライト白色光源を共同開発し、06年秋からサンプル出荷する予定。将来的には、各種照明光源やフルカラーディスプレイ用発光材料の開発も視野に入れている。

日本ゼオン 大型液晶テレビ用ゼオノアフィルムの生産能力を増強

　日本ゼオンは、大型液晶テレビ用ゼオノアフィルムの生産能力増強に着手した。100％子会社のオプテス・高岡工場に増設するもので、当初計画の07年度稼働から06年稼働へ前倒しする。

　光学フィルム原反の年産能力を4000万m2に、新ゼオノアフィルム(延伸フィルム)の生産能力を3000万m2に増強する。また、光学フィルム原反と新ゼオノアフィルム第二工場の建設も検討している。

　新ゼオノアフィルムはゼオノアフィルムを延伸し位相差機能を付与したもので、優れた光学特性と耐久性を有する。

日立ハイテク 台湾・台北支店を現地法人に

　日立ハイテクノロジーズは台湾に現地法人を設立し、10月1日付で台北支店業務を移管した。

　現地法人は「台湾日立ハイテクノロジーズ(台湾日立ハイテク)」。資本金は6000万台湾ドル(約2億円)で、日立ハイテクが全額を出資した。半導体製造装置、LCD製造装置、情報機器、電子部品、電子材料の販売・輸出入を中心に業務拡大を図る。

　日立ハイテクグループの台湾現地法人は、2000年に半導体製造装置の保守サービスを目的に設立したアジアヒスコ(新竹市)に続き2社目。これを機に、07年度に取り扱い売上高1000億円を目指す。

NEC液晶テクノロジー 産業用TFT-LCD3機種を発売

　NEC液晶テクノロジーは、産業機器用TFT-LCD3機種を発売する。

　15型XGA「NL10276BC30-18」、9型ワイドVGA「NL8048BC24-01」、8.4型SVGA「NL8060BC21-02」の3機種で、いずれも−10〜＋70℃という広い動作温度をサポートしている。サンプル価格は15型が5万円、9型が4万円、8.4型が4万円。

日立ハイテク電子エンジニアリング 日立DDのLCD装置事業を取得

　日立ハイテク電子エンジニアリング(HTD)は、日立ディスプレイデバイシズ(日立DD)からLCD関連製造装置事業を譲り受けると発表した。

　日立DDは偏光板貼付装置とレーザーリペア装置を製造し、親会社である日立ディスプレイズをはじめ国内外のLCDメーカーへ販売してきた。今回、経営リソースを本業のバックライト、CCFL(冷陰極管)、映像ボードに集中するため、LCD装置事業を日立ハイテクグループへ移管することにした。これにともない、上記装置の設計者12名がHTDへ異動する。

ダイセル化学とポリプラスチックス 環状オレフィン・コポリマー事業を買収し新会社を設立

　ダイセル化学工業とポリプラスチックスは、セラニーズの100％子会社であるチコナの環状オレフィン・コポリマー(COC)「TOPAS」の事業を買収することで合意した。ダイセル化学が55％、ポリプラスチックスが45％出資して新会社をドイツに設立。新会社がチコナから従業員と生産・研究開発設備を含むCOC事業を引き継ぐ。

　TOPASはレンズや導光板などの光学部品、FPD用光学シート・フィルム、医療・検査機器、トナーバインダーなど幅広く使われるポリマー。

大日本印刷 三原市に反射防止フィルムの新工場を建設

　大日本印刷は、広島県営三原西部工業団地(小原地区)にFPD用反射防止フィルムの新工場を建設する。投資額は約150億円。

　新たに取得した敷地5万3000m2に地上3階建て延床面積1万7000m2の工場を建設する。月産能力は500万m2で、06年10月に稼動を開始する予定。その後も段階的に生産能力を増強し、08年3月までに月産1000万m2体制にする。

JFEマテリアル 使用済み触媒からレア金属を回収し合金鉄を生産

　JFEマテリアルは、国内の製油所から発生する使用済み脱硫触媒や火力発電所から排出されるボイラー灰などからNi(ニッケル)、Mo(モリブデン)、V(バナジウム)といったレア金属を回収して合金鉄を製造する事業を開始する。

　事業開始準備として04年6月に三菱商事、鹿島北共同発電と合弁で「�潟＜^ルテクノロジー(富山県新湊市)」を設立。新会社が使用済み脱硫触媒やボイラー灰を調達するとともに、製造した合金鉄を販売する。

松下電器 50V型フルHD-PDPを開発

　松下電器は、フルHD(1920×1080画素)対応の50V型PDPを開発した。

　11月に発売する65V型フルHDパネルに採用したパネル高開口率化技術や高速駆動技術に加え、安定した発光を得る駆動回路を導入。現行HDパネル並みの開口率を確保し、微細化と高輝度化を両立した。また、コントラストも3000:1を確保した。

シャープ 100万:1の超ハイコントラストASV液晶を開発

　シャープは、コントラスト100万:1の“ASV液晶プレミアム”「メガコントラスト液晶」を開発した。いうまでもなくCRT、PDP、有機ELDといった自発光ディスプレイを上回るコントラスト比で、放送局のスタジオや中継車、映画制作の現場など暗いところで使用されるマスターモニターに最適だという。

　試作したのは37型フルHDTV(1920×1080画素)で、輝度は500cd/m2。その圧倒的な高コントラストによって広いダイナミックレンジを確保。映像制作者の意図に沿った映像チェックが可能となる。

旭硝子 CRTガラスの国内生産から撤退

　旭硝子は06年3月末までに高砂工場(兵庫県高砂市)のCRTガラス製造窯を停止し、CRTガラスの国内生産を中止することを決めた。

　パソコン・テレビのFPDシフトによって国内にCRTメーカーがいなくなったためで、今後、CRTガラスは東南アジア、中国、韓国、台湾で生産する。これを機をFPD用ガラス基板事業をいっそう強化する。