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2003年12月15日号

2003年12月1日号(完売)

2003年11月15日号

INTERVIEW with Key Person
■富士通研究所 4型SVGAフィールドシーケンシャルカラーを開発
　応答速度0.3msec、高精細254ppiで動画、Web閲覧がストレスフリーに
■DotsTech 急成長する小型FPDモジュールメーカー
　STN-LCD、a-Si TFT-LCDに加え、有機ELDやLTPSもラインアップ
　来年2月に亀尾の新工場が完成しキャパシティが倍増

SPECIAL FEATURE
■SEMICON Japan 2003 第7世代TFT-LCD用搬送ロボットが出現
　有機ELDでは薄膜封止技術にWhat's NEWが

ORIGINAL ARTICLE
■低分子有機ELDのアルカリ層はLi2OをEB蒸着するのがベター？
　タブレットは比表面積が小さいためガスの吸着が最小限に
■日立マクセル板状ナノ酸化物粒子を開発
　液相法＋気相法で製造しインク化も容易

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第8回 -ディスプレイに要求される特性(Part 2)-

INTERVIEW with Key Man
■特殊機化工業画期的な薄膜旋回ミキサーで旋風
　高速回転でスラリーを旋回膜にしてパウダーを粉砕・分散
　ファインパウダーの再凝集を防止する効果も
■双葉電子画期的な有機EL用捕水材をリリース
　膜厚10μm以下で塗布して乾燥すれば吸湿性を発現

CLOSE UP THE TREND
■中央精機透明体に強い顕微鏡AFで快進撃
　FPD分野でCCDラインセンサー方式が不動の地位に

SERIAL PUBLICATION
■法律と技術のハザマ最終回

INTERVIEW with Key Person
■双葉電子 8型FEDに続き11.3型FEDの試作に成功
　Spindtエミッタでも大型化は比較的容易

SPECIAL FEATURE
■新たなキーワード“プリンティング”で沸いたマイクロマシン展
　インクジェット/ナノインプリントによるパターニングにホットな視線が

CURRENT ARTICLE
■オプトニクス精密驚異の超低熱膨張メタルマスクを開発
　ガラスよりも熱膨張率が低く、有機EL蒸着時の寸法変動を最小に
■富士通研長さ1mのプラズマチューブディスプレイを試作

ORIGINAL ARTICLE
■日立金属ユニークな有機ELD用複合蒸着材を提案
　アルカリレイヤーとカソードの組成傾斜膜が1回で蒸着可能
　有機EL側を低仕事関数化、カソードを低抵抗＆低反射化
■高分子有機EL発光層にスクリーン印刷が適用できるか？
　マスク厚を薄くするため微細メタルマスクなどを開発する必要が
　ハイスループットと材料利用率の高さが魅力だが･･・
■豊島製作所有機EL吸湿材料としてSrO2ターゲットを開発
　トップエミッションではTiO2などと積層すればAR機能も

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第7回 -ディスプレイに要求される特性(Part 1)-

INTERVIEW with Key Man
■ICMR ZnO系蛍光体と垂直配向MWCNTを開発
　低電圧・高輝度・高効率FEDの実用化をアシスト

TECHNOLOGY FOCUS
■エスピーソリューション画期的なPDPバス電極形成法を考案
　黒色層をベタ印刷後、Agペーストをパターン印刷しマスクレス露光
　40μm幅のファインラインが形成可能なほか、高価なAgの使用量も削減
■東京応化高分子有機ELDのバンク用レジストを開発
　テーパー形状タイプに加え、半球状タイプもラインアップ
■三菱レイヨン下向きプリズムシートでLCDバックライトを高輝度化
　導光板成形技術の進展で“ダイヤアート”の出番が大幅に拡大

CLOSE UP THE TREND
■日本ペイント　液相法によるAu、Agナノパーティクルペーストを開発
　 IJに優位な高分子保護コロイド技術でエレクトロニクス分野も視野に

SERIAL PUBLICATION
■法律と技術のハザマ第15回

INTERVIEW with Key Person
■凸版印刷ポリマー＆デンドリマー有機ELDを公開
　来春にも白色EL発光＋CF方式のフルカラーパネルを試作
　パネル工程までを担当し07年にも電機メーカーへ供給開始

SPECIAL FEATURE
■FPD International 2003 TFT-LCDとPDPが大型テレビで火花
　有機ELはSamsung SDIやAUなど海外メーカーに格段の進歩
　部材関連はバックライトや有機材料にWhat's NEWが続出

CURRENT ARTICLE
■東京モーターショー日産が透明ELD搭載車を
　　日本精機は米自動車メーカーからインパネ用有機ELDを受注
■トッキ、Vitex Systems 有機ELD用薄膜封止装置を開発
■長州産業、日本ビーテック、三井造船
　低分子有機ELD用蒸着装置の販売を開始
■半導体エネルギー研究所とエルディス
　4.3型VGAのトップエミッション低分子有機ELDを開発
■AKT 第7世代TFT-LCD用プラズマCVD装置を開発

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第6回-液晶パネルの製造プロセス-

SPECIAL FEATURE：COATER INTERVIEW
■中外炉工業薄膜コーターの販売を本格化
　Optivaの偏光膜用インキも均一に塗布可能
■東京応化工業 CF用スピンレスコーターで圧倒的シェア
　第7世代基板までは基本設計を変更せずに製品化可能

TECHNOLOGY FOCUS
■三菱重工凸版オフセット印刷でRBG＆BMの同時印刷に成功
　転写胴にそれぞれを転写した後、パターンを一括転写
　LCDのCFだけでなく、高分子有機ELDにも適用可能

SERIAL PUBLICATION
■法律と技術のハザマ第13回

2003年11月1日号(完売)

2003年10月15日号(完売)

2003年10月1日号

INTERVIEW with Key Person
■ナノロア LCDの応答速度を100倍以上に引き上げる新技術を提案
　分極遮蔽型スメクティック液晶でTNモードをさらに進化
　次世代LCDを刺激するエキサイティングなIPベンチャーが誕生

SPECIAL FEATURE
■PDP製造プロセスとナノテクノロジー
　ナノ化によって電極や蛍光体層にIJ法が適用可能に
　低温焼成が魅力だが、トータルコストは？マーク

CURRENT ARTICLE
■ナノテクフェア PDP/FEDにナノ蛍光体の採用可能性が
　ナノメタルパウダーでもニューフェースが相次いで登場
　ナノインプリンティング技術にフィーバーの予感
■テクノリウム　大型LCD-TVの低コスト化を強力アシスト
　バックライト用インバーターに革新的技術を投入
　新システムZAULaS登場でバックライト技術が塗り換わる
■オムロン携帯電話用バックライトにマイクロプリズムを採用
　シミュレーションに基づいた光学設計で光利用効率を3倍に
　単一光源、拡散シートレスで薄型軽量、低消費電力に寄与
■日亜、豊田合成、シチズン電子が一般照明で競演
　LCD用バックライトでは日亜、豊田合成が白い火花

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第5回-液晶パネルの製造プロセス(Part 1)-
■法律と技術のハザマ第12回

INTERVIEW with Key Man
■アルバック有機ELDの薄膜封止技術を開発　SiNx膜を高密度プラズマCVD法でダメージフリー成膜
　カバレッジ性改善のため下地にポリ尿素膜も蒸着重合可能
■DNRI 安価な微細加工をナノインプリンティングで提案
　課題の離型精度、スループットをブラッシュアップ
　量産試作機を完成しアプリ開拓を本格スタート

TECHNOLOGY FOCUS
■日本ビーテックバブルドセルでの蒸着レートの精密制御を実証
　基板搬送時はバルブをクローズして材料利用率を向上

ORIGINAL ARTICLE
■アシザワ・ファインテックナノパウダー専用粉砕・分散機を製品化
　ファイン粉砕化に有利な50μm径の微細ビーズが使用可能

CLOSE UP THE TREND
■九州日立マクセル有機ELD用メタルマスクを公開

MARKET INVESTIGATE
■15年度上半期のPC出荷台数は前年比14％増
■03年第3四半期の世界PC出荷台数は14.1％増に
　HPがDellとの差を縮め、第4四半期はトップ争いが熾烈に

INTERVIEW with Key Person
■富士電機 3D配線＆CCMドライバで高精細PM有機ELDを
　デューティ比を1/4以下に削減可能でカーナビにも適用可能
　山梨に開発拠点を移転、04年度からパイロット生産を開始

CURRENT ARTICLE
■シャープモバイル向け広視野角TFT-LCDを開発
■DNRI ナノレベルの低コスト量産パターン成形技術を開発
　ナノインプリンティングでL&S10nm、深さ100μmの成形が可能に
■三菱電機斜めからも二重像や凹凸反転がない高精細3D LCDを開発
■東レナノオーダーの高精度積層技術でフィルム材料を開発

SPECIAL FEATURE
■CEATEC JAPAN 2003 3D＆FSフィーバーが会場を席巻
　 LCDバックライト用面光源有機ELの製品化が現実味
　双葉電子はSpindt-FED、TDKは無機ELDで孤軍奮闘

TECHNOLOGY FOCUS
■アルバック低電圧FED用ナノ蛍光体＆ナノ薄膜蛍光層を開発
　電子の進入深さが浅い低加速電圧でも高効率発光
　低電圧FED復活のキーインフラになる可能性が

ORIGINAL ARTICLE
■ナガセケムテックス有機ELDの封止膜にエポキシ樹脂を提案
　有機平坦化膜/無機膜/有機保護膜の3層構成でキャップレス封止

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第4回

INTERVIEW with Key Man
■日本ミクロコーティングウェット方式でナノレベルの成膜を
　スパッタ、真空蒸着に迫るロールコーターを提案
■エバテック ANSの有機EL用蒸着装置をラインアップ
　ラインソースを用いたダウンデポで材料利用率を向上

CLOSE UP THE TREND
■パナソニックファクトリーソリューションズ
　低温Poly-Siドライエッチに高密度プラズマを提案
　ハイスループットを活かしレジストフルアッシングへも展開
■本誌が厳選したペーストの評価ツール
　レオロジーの評価にはストレスレオメーター　
　焼成時の挙動評価には小型ファーネスがベター

INTERVIEW with Key Person
■日本ビクター反射型LCOS｢D-ILA｣のラインアップを強化
　大画面プロジェクタで超高精細92～790万画素をカバー

SPECIAL FEATURE：EXHIBITION
■WPC EXPO 2003 e-bookを巡るバトルがヒートアップ
　松下電器がコレステリックLCDモデルを11月に先行発売
■凸版印刷がIGAS 2003で有機ELDを初公開　ポリマーパネルに加えデンドリマーパネルも
■VACUUM2003 有機ELD向けでスモールトピックスが
　マツボーと大阪真空がスパッタ関連で競演

CURRENT ARTICLE
■自動認識展非接触ICカード用コレステリックLCDが登場
■JST カーボンナノチューブと有機分子の複合新素材を開発

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第3回

INTERVIEW with Key Man
■藤倉化成 Ag2Oペースト＆有機銀化合物ペーストで印刷/IJ法のテリトリーを拡大
　ミニマム150℃で低温焼成可能で、プラスチック基板にベスト

ORIGINAL ARTICLE
■ステラコーポ DRC法で手軽に自動検査できる検査ソフトを開発　
　 PCBやフォトマスクが高速インスペクション可能に
■ナガセケムテックス有機ELD用シール材のニューモデルを投入
■サワーコーポ有機ELメタルマスク用洗浄装置市場へ進出
　版離れメカニズムを利用して開口部の有機物を除去

TECHNOLOGY FOCUS
■PHOTONDYNAMICS 6G対応a-Si TFT-LCD用アレイテスタで業界をリード
■日本レーザー電子膜の面内分布を画像で高速測定
　膜厚、膜ムラ評価にカラーイメージングエリプソメーターを提案

CLOSE UP THE TREND
■山八物産 OLED向けにVAC製グローブボックスを積極展開

MARKET INVESTIGATE
■第3四半期の世界携帯電話出荷台数は前年比12％増
■02年度の携帯情報端末・PDA出荷台数は28.9％減

2003年9月15日号

2003年9月1日号

2003年8月15日号

INTERVIEW with Key Person
■Applied Nanotech カーボンエミッタで多くの特許を保有
　電機メーカーへライセンス供与し大型FEDの実現をアシスト

SPECIAL FEATURE：New Cleaning Method
■ジャパン・フィールド有機EL用メタルマスク洗浄装置でトップシェア
　独自の有機溶剤を用いてダメージレスでメタルマスクを洗浄
■FPDの洗浄でパルススプレーコーティング法が急浮上
　 US洗浄では困難なガラスカレットも容易に除去

CURRENT ARTICLE
■アルバック Poly-Si用レーザーアニール装置市場へ進出
　三菱電機の200W固体グリーンレーザーを搭載
■日立化成工業携帯電話用LCD導光板で快進撃
　 V字反射溝の課題をホログラム技術でブレークスルー
　輝度30％アップで2004年度売り上げ120億円を目指す

SERIAL PUBLICATION
■アクティブ液晶の技術と市場第2回
■法律と技術のハザマ第11回

INTERVIEW with Key Man
■アイテック搬送ロボットのエキスパート集団が再び表舞台に
　少数精鋭でメカ設計、電子制御、ソフトウェアの全領域を網羅
　第7G対応から半導体ウェハーまで大気/真空タイプをすべてラインアップ
■日立造船 ITO用レーザーエッチング装置をリリース
　従来のフォトエッチングに比べコストを大幅に削減

ORIGINAL ARTICLE
■デプト自己組織化するメタルナノチューブ形成技術を開発
　円筒から円錐まで形状も自在で、サイズや密度も制御可能
■DGTec 平均粒径1μmのPDP用蛍光体パウダーを開発

TECHNOLOGY FOCUS
■東陽テクニカ配向方位を光学測定可能な配向膜評価装置を提案　
　反射光偏光位相測定法により「PIチェッカー」投入でunknownな配向膜プロセスを定量化

CLOSE UP THE TREND
■アドテックエンジニアリング STN用OS検査装置で業界トップを独走

SERIAL PUBLICATION
■液晶雑記帳

INTERVIEW with Key Person
■Motorola CNTエミッタを含むFED技術をライセンス　
　熱CVD法でマルチウォールCNTを作製　
　 FEDを30型以上の次世代壁掛けTVデバイスに

SPECIAL FEATURE
■第5Gで分岐点を迎えたアレイテスト
　検査装置ビジネスはトータルソリューションの時代へハイスループット、非接触、リペアがキーワードに

CURRENT ARTICLE
■ニューダイヤモンドフォーラム/早大ナノテクフォーラム　
　フィールドエミッタ材料で白熱した議論が
■FHP 32型/37型/42型ALISをバージョンアップ　
　マトリクスセル構造の55型WXGAもラインアップ
■JST アイメスへの委託により白色有機ELバックライトを開発

SERIAL PUBLICATION
■連載「アクティブ液晶の技術と市場」第1回　製品と市場（その１）

INTERVIEW with Key Man
■ランテクニカルサービスリール式乾燥シート対応の有機ELD封止装置を製品化　
　エアーを用いた非接触加圧方式でキャップガラスとEL基板を貼り合わせ

ORIGINAL ARTICLE
■エイコーエンジ R&D/試作用有機EL蒸着装置を開発　
　チャンバを仕切って実質的に4チャンバに
■ユーテックデスクトップDLC成膜装置をリリース　
　夢のデスクトップファクトリーへまた一歩前進

CLOSE UP THE TREND
■LCD-TV対応で変わる光学補償フィルムビジネス
　市場拡大と液晶モード多様化で安定供給&高付加価値化が課題
■オーシャンフォトニクス　光計測の専門商社が発足
　超小型マルチチャンネル分光器を軸に多分野で光計測ニーズに対応

TECHNOLOGY FOCUS
■科学技術振興事業団ナノ粒子を用いた高性能光学ポリマーの開発に成功

SERIAL PUBLICATION
■連載「液晶雑記帳」第3回　微細加工に依らない高精細技術

INTERVIEW with Key Person
■インターナショナルディスプレイテクノロジー　
　 a-Si TFT駆動パネルで有機ELD戦線へ侵攻

SPECIAL FEATURE　New Face of OLED
■Applied Films 有機ELD用インライン蒸着装置の実力を証明　
　ラインソースによるサイドデポで利用率を60％以上に　
　膜厚均一性は±5％以内を楽々クリア
■コロムビアデジタルメディア有機ELD用メタルマスクを開発　
　メッキ法で開口幅・リブ幅をミニマム20μmに微細化可能

CURRENT ARTICLE
■大日本印刷　第5世代用CFの増産体制を構築
　日・台新工場建設で能力470万枚/月に拡充
■MED QVGAフルカラーのマイクロ有機ELDを開発　
　 CMOSベースのトップエミッションでCFを使用してカラー化

ORIGINAL ARTICLE
■日本ビーテック蒸着セルの材質をPBNからSiCへ変更　
　蒸着材料の滲み込みがなく、異なる材料も蒸着可能に　
　熱伝導率はPBNの5倍でヒーター温度に対するレスポンス性が向上
■AGFAのPEDOT/PSSがフレキシブルFPDの透明導電材料として浮上　
　分散液、コーティング溶液、インク、膜付PETの4形態で供給　
　電子ペーパー、LCD、有機ELDでポストITOの有力候補に

INTERVIEW with Key Man
■大日本印刷　大型LCD-TV対応で高付加価値CFの開発を加速
■筑波精工　ガラス基板搬送に新コンセプトHPTSを提案

CLOSE UP THE TREND
■積水化学工業　LCDガラス基板の表面改質に第3の選択肢が浮上
■ポストステッパへホログラム露光が名乗り　
　解像度0.5μmでシステムオンパネルやFEDに最適
■オリンパス光学工業　FPD用顕微鏡でトップシェアを堅守

MARKET IVESTIGATE
■Stanford Resources 有機ELD市場は09年に3700億円に　
　当面は携帯電話がメインアプリでAMパネルが主流に
■15年度第1四半期の国内PC出荷台数は2年ぶりにプラスに

2003年8月1日号(完売)	2003年7月15日号	2003年7月1日号(完売)
INTERVIEW with Key Person ■産総研有機ELと太陽電池をドッキングさせた夢のデバイスを　光照射で発生した電荷を利用することで輝度が1万倍以上に SPECIAL FEATURE ■量産化へカウントダウンがはじまった電子ペーパー　今秋にe-book端末が登場、コンテンツサービスも本格化　キヤノンやソニーなども参入準備へ開発速度を加速 CURRENT ARTICLE ■WIRELESS JAPAN 東芝が3.5型低分子有機ELDをブラッシュアップ　 ■新日鐵化学 3μmレベルの微細化工が可能なネガ型光硬化樹脂を投入　 ■Inter Opto'03 　有機ELDの薄膜封止で住友重機械とサムコが競演 ■第35回PDP技術討論会 MgOをフッ素化させて排気時間を短縮 SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第10回 INTERVIEW with Key Man ■リンクスタージャパン有機EL蒸着用メタルマスク市場へ進出　健正堂のNi/Cu/Ci3層エッチングマスクを量産供給 ORIGINAL ARTICLE ■仏DGTecからアンビリーバブルなPDPリブパウダーが ■日立造船プラズマCVD法で有機ELDを薄膜封止　セルバックと独占提携し薄膜封止装置を製品化 ■有機ELD用メタルマスクの洗浄に画期的な装置が　エイブルがプラズマドライクリーニング装置を開発 TECHNOLOGY FOCUS ■LCD用ドライバICのファインビッチでTAB/COG/COFが三つ巴に CLOSE UP THE TREND ■ニレコ多目的画像外観検査システムXAVISをFPDに投入 MARKET IVESTIGATE ■2Qの世界パソコン出荷台数は3年ぶりに前年比2桁増 ■02年度の携帯電話・PHS出荷台数は前年比4％減　 SERIAL PUBLICATION ■連載コラム液晶雑記帳	INTERVIEW with Key Person ■キヤノン IP-EPDで電子ペーパー市場進出を模索　グレースケール化やカラー化で他の電子ペーパーより優位 SPECIAL FEATURE ■ファインテック LCD向けは第7世代以降の搬送システムでWhat's NEWが　ODFやSOG向けインフラも相変わらずに人気　富士電機のCCM方式有機ELDに驚愕の革新技術が CURRENT ARTICLE ■エルディスグループ 1.1型PM/2.1型AM有機ELDを発表　両面表示タイプのデュアルエミッションパネルも公開 ■産総研可視光を透過する透明な太陽電池を開発 INTERVIEW with Key Man ■新日鐵化学有機EL材料の工業化で断然リード　オリジナル発光材料や高耐熱性正孔輸送材料も開発 ■アテネ複数の有機ELDメーカーでメタルマスクの量産採用が決定　 ■テクノリウム注目のバックライト用インバータ　小型・軽量化の立役者が技術革新を示唆 ORIGINAL ARTICLE ■三菱化学 405nmレーザー直描用DFRを開発　高解像性と高感度というトレードオフの関係を打破 CLOSE UP THE TREND ■住友商事・東京システム開発有機ELテスタをグローブボックス内に ■Covion フォトリソ可能な高分子有機EL発光材料を開発　既存のSpiro構造材料に感光基をつけてUV感光化 ■アルバック機工 OELD材料研究をバックアップ　有機LE蒸着装置ELORAがR＆D部門で好調な出足 TECHNOLOGY FOCUS ■JST イオン性液体を添加してSWCNTをゲル化 MARKET IVESTIGATE ■03年度の日本製LCD製造装置販売高は前年比15％増へ SERIAL PUBLICATION ■連載コラム液晶雑記帳	OBJECTION ■東芝松下ディスプレイテクノロジー　インプットディスプレイで低温poly-Si TFT-LCDの未来を切り拓く SPECIAL FEATURE ■ファインテック・ジャパンタイアップ特集　本誌編集部が独断と偏見でセレクトした過去1年間のFPD関連プロダクトベスト5 INTERVIEW with Key Person ■TDK 年内に4096色カラー有機ELDの量産を開始　まずは車載用パッシブパネル市場を開拓 CURRENT ARTICLE ■第3回大気開放型CVD研究会/PDPプロジェクト普及講習会　トッキが50型対応の大気開放型CVD装置を製作　PDPのMgO膜を大気CVDで成膜できる可能性が ■iFire Technology 05年に34型無機ELDテレビを製品化　色変換方式の17型VGAパネルを公開 INTERVIEW with Key Man ■富士通研究所低温poly-Si結晶で600cm2/Vsを実現　 CWレーザーによるラテラル結晶法で大粒径化に成功 ■リンクスタージャパン設立2年でFPD装置メーカーとして台頭　LCD装置はラビング装置、ベーク炉、印刷機などセル工程を完全網羅 ■いけうち　静電対策は湿度コントロールよにる予防体制が肝心 TECHNOLOGY FOCUS ■Exitech FEDのカソード基板プロセスにレーザーエッチングを提案　透明カソード越しにレーザーを照射しゲートホールを形成 ■NHK放送技術研究所次世代ディスプレイの基礎開発で新技術を続出　有機トランジスタ/フレキシブル有機ELDが目前に ORIGINAL ARTICLE ■ジャパンハイテックの焼成過程観察装置が　 FPDペーストの評価ツールとして存在感 ■東レ・ダウコーニング　TFT用Si系パッシベーション材料を開発 CLOSE UP THE TREND ■日本レーザー HEIDELBERG製新型レーザー描画装置を投入 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ最終回 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第23回
2003年6月15日号	2003年6月1日号	2003年5月15日号
NTERVIEW with Key Person ■オプトレックス日本精機と有機ELD事業で合弁　　日本精機の既存ラインに追加投資し月産60万枚体制に　　車載用モノカラー＆エリアカラーパネルを先行リリース SPECIAL FEATURE ■SID 2003 アクティブ有機ELD関連でWhat's NEWが続出　　PDPでは高効率パネルやニュープロセスに脚光 CURRENT ARTICLE ■JPCA Show 2003 405nmレーザー直描向けインフラが相次いで登場 SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第9回 INTERVIEW with Key Man ■Saint-Gobain FED用ガラススペーサの量産出荷が秒読みに　　装置メーカーとプレースメント技術を共同開発 ■NEC LCDフォトマスク用マルチリペア装置をブラッシュアップ ORIGINAL ARTICLE ■旭エンジ DFR現像排液の再利用システムを考案　現像廃液処理コストを1/10以下に削減可能 ■ステラコーポレーションユニークな検査装置を開発 TECHNOLOGY FOCUS ■ファインピッチが加速するTAB/COF技術　パネル高精細化で38μmピッチ以細が争点に　JPCA Show2003では2層CCL基板の出展に注目 CLOSE UP THE TREND ■Ness Display 有機ELDラインにインライン蒸着装置を導入 ■日立インダストリイズ画期的なラミネータを開発　フィルムの先端と後端をコロナ吸着でロールに密着 ■ナックイメージテクノロジー　超高速/微小現象の拡大高速撮影を実現　 ■西華産業日本で台湾Eternalのレジストを販売　次世代低温Poly-Si TFT-LCDラインなどに照準 MARKET INVESTIGATE ■03年第1四半期の世界携帯電話販売台数は1億1270万台 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第23回	INTERVIEW with Key Person ■東京農工大学・越田研究室ナノSiで夢の新型FPDを　　 BSDに続き、真空レスで固体発光するBLDを開発 SPECIAL FEATURE ■第3のメディア、リライタブルペーパーがデビュー　凸版印刷がロイコ染料を用いたメディア＆プリンタを製品化リコーも参入準備　富士ゼロックスは光書き込み型で新市場を模索 CURRENT ARTICLE ■日立製作所発光期間制御で有機ELDの階調表現性・ピーク輝度を向上 ■JSTと産総研着色廃ガラスのリサイクルに成功　紫外線発光の蛍光ガラスも作製可能に ORIGINAL ARTICLE ■EME シール材用シリンジ充填型真空脱泡ミキサーのラインアップを拡大　シリンジが16本搭載可能な大容量モデルを追加 ■Exitech 大型FPD用レーザードライエッチング装置をフルモデルチェンジ　水平処理から垂直処理へ変更し2枚のマザーガラスを並行処理 ■ニューロング精密有機ELD用シール材のスクリーン印刷に成功　専用の真空スクリーン印刷機の開発に着手 ■HEIDELBERG PDPマスク用超大型レーザー描画装置を投入　ヘッドをXY移動してフットプリントを抑制 INTERVIEW with Key Man ■日商岩井メカトロミラートロンスパッタ装置でニューソリューションを　 ■芝浦メカトロニクスインクジェットによる配向膜塗布を提案　 ■ナカンロール式配向膜塗布装置に新コンセプ TECHNOLOGY FOCUS ■SAES Getters 有機ELDでのアルカリメタルの低電圧化効果を立証　 ■産総研シリコンクラスタービームでナノ構造秩序を形成　シリコンナノブロックの立体的秩序の構築へ前進 CLOSE UP THE TREND ■三井造船低温Poly-Si用イオン注入の開発を加速 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第22回	INTERVIEW with Key Person ■富士ゼロックス紙とディスプレイの双方から電子ペーパーにアプローチ　光書き込みタイプで瞬時にリライタブル SPECIAL FEATURE ■デジタルパブリッシングフェアでe-book戦争の予兆が　シャープは高精細CGシリコンTFT、凸版印刷は電気泳動ディスプレイを　大日本印刷は有機ELDでポスターのアイキャッチ効果を向上 CURRENT ARTICLE ■日本ビーテック本社工場に200×200㎜対応の有機EL蒸着装置を設置 ■03年第1四半期の世界PC出荷台数は3447万台 SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第8回 INTERVIEW with Key Man ■ペンタックス PDP用レーザー直描装置の描画方式を変更　 ■大日本インキ化学工業　アゾ化合物を用いた新タイプのLCD光配向膜を開発 ■藤森技術研究所次世代ニーズを先取りした新コーティング技術を開発 ORIGINAL ARTICLE ■液晶テレビ用バックライト向けとしてSaint-Gobainのガラス拡散板が急浮上 ■住友商事高分子有機ELDプロセスにレーザー転写法を提案 ■エム・シー・ケー Izovacのイオンプレーティング装置を販売 TECHNOLOGY FOCUS ■日立金属のCu-Cr合金ターゲットの存在感が急上昇 CLOSE UP THE TREND ■Micronicが解像度0.75μmのTFT-LCD用マスク描画装置を投入 ■三井造船低温poly-Si用イオン注入の開発を加速 MARKET INVETIGATE ■02年の国内携帯電話販売台数は2年連続で前年割れ SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第21回
2003年4月15日/5月1日合併号	2003年4月1日号	2003年3月15日号
INTERVIEW with Key Person ■菱電商事 Kopinの透過型LCOSが青写真通りに成長　　モノクロEVF向けで圧倒的シェアをゲット　 SPECIAL FEAURE ■EDEX2003/SEMI FPD Expo 　　　日立ディスプレイズが3.5型低分子有機ELDを初公開　　有機EL蒸着装置で新たな刺客が相次いで名乗り CURRENT ARTICLE ■日本ビーテック三井造船、長州産業とのスクラムで有機EL蒸着装置市場へ　　第1弾はクラスタツール装置、第2弾はサイドデポによるインライン装置を　 ■有機ELセミナーの実用技術と可能性フォーラム開催 ■第34回PDP技術討論会 PDPとTFT-LCDの画質比較に脚光が　 SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第7回 INTERVIEW with Key Man ■デプト夢のCu合金ターゲットの量産採用が秒読みに　　ドライエッチも容易でガラスやITOにもダイレクト成膜可能 ■NBC スクリーン印刷用V-SCREENを量産　　強度、伸度、弾性回復力、テンションなどでSUSコンビ版を圧倒 ■オプトサイエンスガラス＆薄膜加工のトータルコーディネーター ORIGINAL ARTICLE ■リンクスタージャパン有機ELD用インライン型HMDS塗布装置を開発 ■フィルムテンション露光がいよいよ実用化へGoサイン　　伯東/サンエー技研がPCB用露光装置を開発、大型PDPにも適用可能 ■協立化学可視光硬化タイプのODF用シール材を開発 TECHNOLOGY FOCUS ■大型・高精細で二極化するドライエッチ技術 ■ArF/Low-k対応問われるドライエッチング技術 MARKET INVETIGATE ■02年の国内PDA・ハンドヘルド出荷台数は前年比21％減 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第20回	INTERVIEW with Key Person ■富士通日立プラズマディスプレイ　PDPラインを月産3万枚から5万枚へ増強　Formosaとの合弁工場は今春から稼働 SPECIAL FEATURE ■FPD設備投資はパワーゲームに　a-Si TFT-LCDは早くも第7世代対応ラインに照準　PDPも大型設備投資を敢行しLCD迎撃体制に CURRENT ARTICLE ■山形を有機エレクトロニクスの一大拠点に　山形有機エレクトロニクスシンポジウムで青写真が明らかに ■CMO、IDTech、IBM a-Si TFT駆動の20型有機ELDを開発　有機ELD用アクティブ素子はa-Si TFTが最適？ ■NKK SWNCTよりも電子放射性が高いMWCNTテープを開発 TECHNOLOGY FOCUS ■液晶滴下プロセスにドリーミーなマテリアルが登場　オーテックスが完全UV硬化型シール材を開 ■MJC 大型・高精細対応プローバーをさらにバージョンアップ INTERVIEW with Key Man ■トッキホットウォール蒸発法で面光源有機EL装置市場も席巻へ ■ブイテク 03年度も次々とニューコンセプト装置をリリース ■エスピーソリューション再現性の高いスクリーン印刷をもっと広めたい　来年末には印刷関連設備を導入し開発・試作事業に進出 ORIGINAL ARTICLE ■MED マイクロ有機ELDの初期量産は自社で蒸着・封止装置などパイロットラインを導入 CLOSE UP THE TREND ■サムコインターナショナル研究所 FPDプロセスのドライ化を推進 ■日本オルボテック　ラインの垂直立ち上げと歩留まり安定を支援　 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第19回	INTERVIEW with Key Person ■ソニー Siウェハープロセス採用の反射型LCOSを開発　画素サイズ9μm、画素間スペース0.35μmを実現 SPECIAL FEATURE ■nano tech 2003 　Applied NanotechのCNT-FED基板製造技術に脚光が CURRENT ARTICLE ■第2回PDPプロジェクト技術普及講習会　 ■ガートナージャパン 02年の国内パソコン出荷台数を発表 ■NECライティングと松下電器がLCDテレビ用CCFLで火花 SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第6回 ORIGINAL ARTICLE ■健正堂　 Ni/Cu/Niメタルマスクで有機ELD用メタルマスク市場へ侵攻 ■有機ELDで非ボトムアッププロセスが浮上　一方の基板にカソードをスパッタ＆エッチングしてパターニング ■現代プラズマカラーPDP市場へ進出　 INTERVIEW with Key Man ■日立造船　富士第一製作所を買収し有機ELD蒸着・封止装置に名乗り TECHNOLOGY FOCUS ■UV励起ガラス蛍光体が実用化へ大きく前進 ■90nmノードで急騰するマスクコスト CLOSE UP THE TREND ■東プロ　エマルジョンマスク用保護膜材料＆コーターをセット販売 ■ガラス基板大型化で問われる駆動系部品精度 MARKET INVESTIGATE ■IDC 02年の国内PC市場出荷台数は前年比11.1%減 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第18回
2003年3月1日号(完売)	2003年2月15日号	2003年2月1日号
INTERVIEW with Key Person ■DuPont Displays 高分子モノカラー有機ELDの量産開始　　Varitronixと日本メーカーへモジュール化を委託　 SPECIAL FEATURE ■従来法とは根本が異なる液晶滴下プロセス　　シール材、フォトリソスペーサ材料に課題が CURRENT ARTICLE ■ソニープロジェクション用反射型LCOSを開発 ■住友重機械・タツモ FPD用スピンレスコーター組立ラインが完成 ■低価格エキシマランプ台頭で変わる光洗浄プロセス　ランプ業界の勢力図に異変の兆し ■三菱電機フロント投射のマルチプロジェクションをシームレス化 SERIAL PUBLICATION ■米国のエレクトロニクス事情第6回　 -サテライト・ラジオを聴いてみた！- INTERVIEW with Key Man ■東プロ超高精度メタルマスクで有機ELD業界に旋風　デルタセル用でもストレートテーパ化を実現 ORIGINAL ARTICLE ■リンクスタージャパン CO2クリーニングシステムをリリース　CO2パウダーを噴射し無機物＆有機物を除去 ■多摩電気 Osramの平面発光体を用いたHgフリーBLを製品化 CLOSE UP THE TREND ■三井化学分析センターハイクオリティな前処理技術で業界をリード ■AKT 第5世代a-Si TFT-LCD用電子ビームアレイテスタを出荷 TECHNOLOGY FOCUS ■Low-k対応で問われるやさしいCMP装置　東京精密、ニコンが新研磨コンセプトを提案 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第17回	INTERVIEW with Key Person ■長岡科学技術大学・斎藤研究室　 SUSメッシュに大気開放型CVDで絶縁膜を形成しPDPのリブに SPECIAL FEATURE ■FEDエミッタとしてのCNTのポテンシャル　積層パターニング法でCNTエミッタを形成 ■双葉電子工業フルカラーFEDの量産が秒読み段階に CURRENT ARTICLE ■東プロ有機ELD用キャップガラス市場へ侵攻　サンブラ後にエッチングでマイクロクラックを除去　スクリーン印刷した乾燥材付キャップガラスも視野に SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第5回 INTERVIEW with Key Man ■エバテック FPDエンジニアリング事業で急成長　台湾・中国メーカーからフォトラインなどを次々と受注 ORIGINAL ARTICLE ■住友重機械新コンセプトの低温poly-Si TFT用ELA装置を相次いで投入 ■PDPの効率＆ライフ改善にはゲッターが有効　不純物ガスを極力減らすことが効率化への近道　フリッタブルゲッターを排気後に活性化 TECHNOLOGY FOCUS ■ロードマップ上でせめぎあうリソグラフィ技術　 65nmノードはArFかF2か ■ニコン 65nm以細、次世代リソで注目度高まるEPL 　コンタクトホール解像/マスクコスト低減の切り札に MARKET INVESTIGATE ■02年の国内PC出荷台数は前年比11％減の1066万台 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第16回	INTERVIEW with Key Person ■スペクトラテック医療用モノクロTFT-LCD第2弾を開発　　画素を3分割して256階調を1786階調に ■出光興産 CCM有機ELDが青緑発光から白色発光でさらに進化 ■沖ネットワークエルエスアイ通信系システムLSIで先陣を切る設計プロ集団 SPECIAL FEATURE ■インターネプコン・ジャパン/半導体パッケージング技術展　実装関連はPbフリー対応で装置技術に新機軸が続出　　有機EL蒸着メタルマスクでニューフェイスが相次いで名乗り ORIGINAL ARTICLE ■Vテクノロジー　 FPD用検査装置/リペア装置を独占公開 SERIAL PUBLICATION ■米国のエレクトロニクス第5回 INTERVIEW with Key Man ■ボールセミコンダクター DMDを用いたマスクレス露光装置事業が2ndフェーズに TECHNOLOGY FOCUS ■つくばセミテクノロジ　ウェハー洗浄で新コンセプトを提案 CURRENT ARTICLE ■NEDOの有機EL開発プロジェクトの目標が一部変更へ　　予算減額で有機トランジスタパネルは試作サイズを2～4型へ小型化 ■アルバック・コーポレートセンター、ハリマ化成 Auナノペーストのサンプル出荷を開始 CLOSE UP THE TREND ■クラリアント有機ELDのカソードセパレータ用レジストの詳細を公表 MARKET INVESTIGATE ■前年比22.5％増と2ヶ月連続で20％増を超えた11月の半導体出荷額 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第15回
2003年1月15日号
INTERVIEW with Key Person ■東芝松下ディスプレイテクノロジー　　有機ELDは現時点では低分子、高分子双方を開発中　 03年中にアクティブ有機ELDをリリース ■ティーエスエムシージャパン　　日本IDMの戦略的アウトソーシングを強力支援 SPECIAL FEATURE ■第32回インターネプコン・ジャパンプレビュー ■NECエレクトロニクス　　国内実装技術の将来展望について　 SERIAL PUBLICATION ■法律と技術のハザマ第4回 INTERVIEW with Key Man ■三菱マテリアル　 Samsung SDIのPDPラインでブレード成型法の採用が決定 CURRENT ARTICLE ■初めて微細化の前倒しがストップしたITRS 2002 TECHNOLOGY FOCUS ■新時代に突入するカーボンナノチューブ　 ■住友金属鉱山有機ELD用フラット透明導電ターゲットを開発 ■有機ELD用エッチングメタルマスクに救世主が　　日立金属が高精度エッチングが容易な3層箔プレートを開発 ORIGINAL ARTICLE ■アテネ有機ELD用メタルマスク生産設備を増強　 ■共同印刷 LCDカラーフィルタ事業再構築へ　 ■エプソンポリマー有機ELDのブラッシュアップに成功　　 MARKET INVESTIGATE ■携帯電話市場 3Gインフラの遅れが出荷伸び率にブレーキ　 ■02年3Qの国内携帯電話出荷は前年比横バイに　 SERIAL PUBLICATION ■スクリーン印刷のススメ第14回

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