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INTERVIEW with Key Person
■カシオ計算機 透過/反射兼用の2WayバックライトLCDが好調
■Eastman Kodak デジカメ用センサーで戦線拡張
■サンユレック 半導体パッケージで独自技術を世界に発信
SPECIAL FEATURE
■SEMICON JAPANプレビュー
ORIGINAL ARTICLE
■FRAMの完全代替狙うMRAM
■住友ゴム 凹版オフセット印刷機を独占公開
■ミクロ技術研究所 有機ELD用CF基板を開発
■サーマトロニクス PCB・有機ELD用露光装置市場へ侵攻
SERIAL PUBLICATION
■技術と法律のハザマ 第3回
INTERVIEW with Key Man
■激戦市場にまたしてもニューフェースが
セントラル硝子がPDP用高歪点ガラス市場へ名乗り
CURRENT ARTICLE
■PDPプロジェクト技術普及講習会/大気開放型CVD研究会
■ナノテクフェア 東レが赤色有機発光パネルを公開
■第13回マイクロマシン展
■第33回PDP技術討論会 中国のPDP開発状況が明らかに
TECHNOLOGY FOCUS
■足踏み続くLow-k絶縁膜
■JST 三安定状態のメモリー性LCDを開発
MARKET INVESTIGATE
■前年同月比14.9％増と2桁成長を維持した9月の半導体出荷額
■WSTS 2002年秋季半導体市場予測を発表
SERIAL PUBLICATION
■スクリーン印刷のススメ 第12回
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INTERVIEW with Key Person
■大日本インキ化学工業 ポリマーネットワークLCDでペーパーライクディスプレイを
SPECIAL FEATURE
■LCD/PDP International 大型テレビでTFT-LCDがPDPを猛追
有機ELDは韓国・台湾メーカーもこぞってデモ
CURRENT ARTICLE
■NECエレクトロニクス DRAM除く半導体事業で分離独立
■エルピーダの新社長に前UMCJ社長の坂本幸雄氏が就任
■AKT 1500×1800㎜対応プラズマCVD装置を開発
■シャープ半エネ CGシリコンでガラス基板上に8ビットCPUを形成
SERIAL PUBLICATION
■米国のエレクトロニクス事情 第3回
INTERVIEW with Key Man
■激戦市場にまたしてもニューフェースが
セントラル硝子がPDP用高歪点ガラス市場へ名乗り
ORIGINAL ARTICLE
■Crystal Solution/常陽工学 単結晶のPDP用MgOペレットを開発
■フルヤ金属 反射電極＆配線用ニューターゲットを開発
■エバテック 第5世代CF用研磨装置を開発
SPECIAL FEATURE
■マイクロマシン展
半導体･FPDプロセスがマイクロマシンをバックアップ
TECHNOLOGY FOCUS
■CNT-FEDの積層パターニングプロセスが明らかに
CLOSE UP THE TREND
■低コストプロセス 問われるスタックドCSP
■電子ペーパーは07年に200億円マーケットに
SERIAL PUBLICATION
■スクリーン印刷のススメ 第11回
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INTERVIEW with Key Person
■MicroEmissive Displays 驚異のローパワーマイクロOELDを開発
■SMIC 中国最大ファウンドリが日本市場に販売攻勢
SPECIAL FEATURE
■半導体製造技術Forum2002開催
TECHNOLOGY FOCUS
■ノリタケ セラミックスシートを用いた新型PDPを開発
ORIGINAL ARTICLE
■ジャパンハイテック PDP基板焼成過程観察ユニットを開発
SERIAL PUBLICATION
■技術と法律のハザマ 第2回 法律の理解と特許の対象
CURRENT ARTICLE
■Euro Display 02 PDPの壁電荷分布測定法が脚光
■NEC 世界初の電流ドライバ一体型有機ELDを開発
■IDC Japan 国内PC市場セグメント別エンドユーザー動向を発表
INTERVIEW with Key Man
■オプトニクス精密 ブリッジメタルマスクでFPDプロセスに革命を
ORIGINAL ARTICLE
■日本ビーテック クリーピングレスAl蒸着セルの構造を明らかに
CLOSE UP THE TREND
■日本でもいよいよ本格化してきたMRAM開発
■Canyon Materialsのグレースケールマスクが量産採用へ
■海外シフト加速で競争力問われる国内半導体パッケージ
MARKET INVESTIGATE
■半導体出荷額は前年同月比23.7％増と7月に続き高い成長を記録するも
SERIAL PUBLICATION
■スクリーン印刷のススメ 第10回
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INTERVIEW with Key Person
■クリスタージュ ファブレスTFT-LCDメーカー
a-Si TFT-LCD、低温Poly-Si TFT-LCDを開発・生産
■E Ink ICカード用電気泳動ディスプレイを開発
SUS製a-Si TFT基板でパートナーを模索
SPECIAL FEATURE
■CEATEC JAPAN 2002 今年も有機ELD旋風が会場を席巻
双葉電子からはついにカラーFEDが登場
CURRENT ARTICLE
■エルピーダメモリ 三菱電機からDRAM事業を買収
■2002洗浄総合展 半導体はウェハー洗浄が前/後工程で出展
■ソニー システム回路搭載の低温Poly-Si TFT-LCDを開発
■シャープ 2D/3D切り替え表示可能なTFT-LCDを開発
TECHNOLOGY FOCUS
■科学技術振興事業団や大阪大学など 誘導結合プラズマCVD技術を開発
■アネルバがMRAM用ドライエッチ技術を発表
SERIAL PUBLICATION
■米国のエレクトロニクス事情 第2回
URGENT INTERVIEW
■ヒューネット ついにFS方式LCDが事業化へ
サムスンSDIへライセンス供与
ORIGINAL ARTICLE
■日本ビーテック クリーピングレスAl蒸着セルの構造を明らかに
CLOSE UP THE TREND
■有機ELDの歩留まり向上に絶大な効果
清和光学が有機ELDのダークスポットリペア装置の概要を明らかに
■日立・三菱の半導体事業統合、ルネサス テクノロジが誕生
SERIAL PUBLICATION
■スクリーン印刷のススメ 第9回
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INTERVIEW with Key Person
■長岡技術科学大学・斎藤研究室
独自開発したウィスカー型エミッタを用いたFEDを提案
SPECIAL FEATURE
■VACUUM2002-真空展 大阪真空から有機ELD用対向ターゲットスパッタ装置が
CURRENT ARTICLE
■Intelが初の非プレーナ構造を発表
■産総研 直径20nm、3次元銀ナノ粒子集合体を光ディスクへ均一成膜
■iFire Technology 17型無機ELDを公開
■産総研と林原生化研 有機色素増感太陽電池で変換効率7.5％を
■三洋電機 メガネレス3Dの50型PDPを開発
TECHNOLOGY FOCUS
■松下電器がIC・受動部品内蔵可能な3次元実装モジュールを開発
■R&D向けから量産向けへ飛躍が期待される新対向ターゲットスパッタ
■産総研 カーボンナノチューブの量産にフォトリソを適用可能に
SERIAL PUBLICATION
■技術と法律のハザマ 第1回
ORIGINAL ARTICLE
■PDPガラス基板の黄変はPbOとAgの反応で発生
Ag電極と誘電体層と一括焼成しなければ黄変せず
■低温Poly-Si TFTのa-Siプリカーサ膜をLP-CVD法で
CLOSE UP THE TREND
■有機ELDのシール材塗布法としてスクリーン印刷が急浮上
■残渣レスでサイドエッチが少ない関東化学のAg合金エッチ液
MARKET INVESTIGATE
■前年同月比25.7%増と大幅成長となった世界半導体市場
■HDD市場は01年が微減とマイナス成長
02年は反転し4.5％増の予想だが下方修正も
SERIAL PUBLICATION
■スクリーン印刷のススメ 第8回
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INTERVIEW with Key Person
■Eastman Kodak アクティブ有機ELDを自社販売
SPECIAL FEATURE
■電子デバイスプロセスに革命を起こすナノペースト
IJ法の守備範囲を拡大、スクリーン印刷の可能性も向上
CURRENT ARTICLE
■産総研 高品位シリコン酸化膜の低温作製に成功 TFTや不揮発性メモリーのゲート酸化膜に有効
■KRIのフレキシブル基板プロジェクトがスタート
■三菱重工がHDP-CVD装置を開発し半導体製造装置市場に参入
富士通と提携しFRAM向け層間絶縁膜成膜プロセスを共同開発
INTERVIEW with Key Man
■AIXTRON 独自のOVPDプロセスで有機EL層を1チャンバで連続蒸着
TECHNOLOGY FOCUS
■日本原子力研究所 シリコン28の大量分離・濃縮技術を開発
■日本ゼオン 有機ELDのカソードセパレータ用レジストをバージョンアップ
SERIAL PUBLICATION
■米国西海岸エレクトロニクス事情 第1回 ブロードバンドインフラの実情
ORIGINAL ARTICLE
■FED蛍光パネルに電子ビームを照射し脱バインダ＆発光検査を
■ミクロ技研 DFR専用のPDP向け剥離装置の概要を公表
CLOSE UP THE TREND
■ウェーハ加工受託ビジネスが引火の兆し
MARKET INVESTIGATE
■IDC Japan 産業分野別の国内IT投資動向を発表
SERIAL PUBILICATION
■スクリーン印刷のススメ 第7回
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INTERVIEW with Key Person
■スペクトラテック 医療用モノクロTFT-LCDのベンチャーメーカー
256階調を1786階調化するマジックで存在感
SPECIAL FEATURE
■低分子有機ELD蒸着工程に変革の予感が
ラインソース蒸着やサイドデポが膜厚均一性や利用率で台頭
CURRENT ARTICLE
■Intelが90nmプロセスを開発
2003年に量産を開始 他社に先駆け歪みシリコンの導入図り、遂にLow-kも
INTERVIEW with Key Man
■トッキ 次世代有機EL蒸着・封止装置はアップデポ＆薄膜封止で
ORIGINAL ARTICLE
■Skionのマイナスイオンスパッタ法が急浮上
■ユーテック コンパクトなユーティリティ成膜・エッチング装置を開発
INTERVIEW with Key Man
■PDPガラス基板は二強時代の幕開けか？
日本板硝子が満を持して高歪点ガラスを投入
TECHNOLOGY FOCUS
■モリテックス 無反射加工技術の詳細を明らかに
■SAES Getters 低分子有機ELD用アルカリ成膜材のマスプロモデルを開発
CLOSE UP THE TREND
■アルカリの蒸着レートが測定可能なLUXTRONの原子吸光レートモニター
■マトリクスセルPDPの必須ツール？
東京応化工業の感光性ガラスシートが脚光
MARKET INVESTIGATE
■6月の半導体出荷額はわずかなプラスに留まり、北米が大きく落ち込む
■ICカード国内市場は2010年度に7億5270万枚へ
SERIAL PUBILICATION
■スクリーン印刷のススメ 第6回
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INTERVIEW with Key Person
■富士通ディスプレイテクノロジーズ
MVA技術のラインセンスなどエンジニアリングサービスも
SPECIAL FEATURE
■各種印刷法やIJ法といったアディティブ法が台頭
■PDP電極の形成法として住友ゴムの凹版オフセット印刷が見参
CURRENT ARTICLE
■半導体分社化でNECエレクトロニクスがスタート
■富士通研 量子ドットのパターニングに成功
■京都大学とパイオニアや三菱化学など5社
有機エレクトロニクス・デバイス開発アライアンスを設立
■PDP技術討論会 径1mmのガラス管セルでPDPウォールを
エプソンからはIJ法によるバス・アドレス電極形成の提案が
ORIGINAL ARTICLE
■イーエッチシー 有機ELDの隔壁用感光性黒色ポリイミドを開発
■日本ビーテックがバルブド蒸着セルを開発
ドーパント比率を高精度制御できるほか、サイドデポも可能に
■トウワプロセス 保護膜付クロムマスクのリワークに成功
TECHNOLOGY FOCUS
■三洋電機 発光アシストドーパントを用いて赤色有機EL素子の特性を向上
発光層にルブレンをアシストドーパントとしてドープ
MARKET INVESTIGATE
■14年度第1四半期の国内PC出荷台数は13％減
CLOSE UP THE TREND
■意地と気骨が次々世代デバイス開発のアクセル
MIRAIの成果に久々に活気づく日本のR&D
SERIAL PUBILICATION
■スクリーン印刷のススメ 第5回
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INTERVIEW with Key Person
■ヒューネット FS駆動LCDのファブレスメーカー
携帯電話用TFT-LCDは量産採用まであと一歩
SPECIAL FEATURE
■有機ELDのメインインフラとして競争が激化してきた蒸着セル
CURRENT ARTICLE
■ついに姿を現したASPLAは日本半導体産業の救世主になれるのか
■産総研 単結晶ナノ構造電極を持つTMR素子を開発
■InfoComm Japan 2002 昼間でも高コントラストのホログラムスクリーンが脚光
■シャープ亀山工場のマザーガラスサイズが明らかに
■富士通研 MOSFET電極となるシリサイド層へ多層CNTを垂直成長
■ユーテック アーク放電法によるCNT生成装置を開発
ORIGINAL ARTICLE
■新星エルフォテックから画期的なサンブラ装置が
ブラスト速度を従来装置の10倍以上にアップ
TECHNOLOGY FOCUS
■住友大阪セメント 画期的なPDP前面フィルタ用電磁波シールドメッシュを開発
スクリーン印刷やメッキなどわずか3工程で電磁波シールド性と黒色化を両立
MARKET INVESTIGATE
■02年度の移動通信機国内出荷台数は4195万台へ
■ようやくプラスに転じた半導体市場 本格的な回復か？
■02年第2四半期のPC出荷台数は前年比微減に
CLOSE UP THE TREND
■TFT基板のリペア技術として快進撃を続けるNECのレーザーCVD装置
■韓国NeoView 低分子有機ELDをサンプル出荷
SERIAL PUBILICATION
■スクリーン印刷のススメ 第4回
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