★低温poly-Si TFT-LCDの製造プロセスが一目瞭然 !!
★わかりにくかったアレイプロセスを徹底図解！
★画素領域だけでなく駆動回路領域のプロセスも網羅！
★断面図だけでは知り得ないトランジスタ構成を3D図で解説
★トランジスタ構造はLDD、GOLDD、Dual Gate、CLDDをカバー！
★CF、液晶セル、組み立てまですべての工程を網羅！
★3D化方式もわかりやすく解説!!

★トータルファイル数は計54(A4用紙換算で約150ページ)
★プロセスフロー図は計340以上

コンテンツ

■低温poly-Si TFT-LCDの構造
�@シングルドレイン構造
�Aデュアルゲート構造
�BLDD構造
�CGOLDD構造
�DCLDD構造
■3D化技術
■低温とは？！(LTPSの課題)
■結晶化プロセス
■低温poly-Si TFTアレイ製造工程
トップゲート構造
�@シングルドレイン(SD)タイプ
�ALDD構造
�BGOLDD構造
・・・・poly-Si膜形成プロセス
・・・・TFTエリア形成プロセス
・・・・ゲート電極形成プロセス
・・・・キャパシタ電極形成プロセス
・・・・P-TFTイオン注入プロセス
・・・・N-TFTイオン注入プロセス
・・・・データ線形成プロセス
・・・・コンタクトホール形成プロセス
・・・・パッシベーション膜形成プロセス
・・・・水素化処理
・・・・平坦化プロセス
・・・・コンタクトホール形成プロセス
・・・・画素電極形成プロセス
■カラーフィルタ製造工程
・・・・IPSモード用カラーフィルタ
・・・・VA/TNモード用カラーフィルタ
・・・・BM形成
・・・・RGB着色層パターニング
・・・・フォトリソスペーサー形成
■液晶セル工程
・・・・ポリイミド塗布・ベーク
・・・・ラビング
・・・・シール剤塗布
・・・・スクライブ・ブレイク
・・・・液晶滴下、注入
　　・・・・セル薄型化
■モジュール組み立て工程
・・・・ドライバIC接続
・・・・ACF接続
・・・・バックライトの構造
(すべての工程に使用される材料、装置も詳細に解説)