絵で見るプリンタブルTFT製造プロセス2017年版
ウェットプロセスで作製可能なプリンタブルTFTの製造プロセスを徹底検証!!


★フレキシブルデバイスや透明デバイスに最適なプリンタブルTFTの製造プロセスを完全図解
★プリンタブル有機TFT、CNT-TFT、ZnO系酸化物TFTの製造プロセスを徹底検証
★従来の真空成膜デバイスとの特性比較も明示
★基本プロセスから次世代プロセスまでをカバー
★有機材料は分子構造も図解
★デバイス構造図、プロセスフロー図をすべて3D化

★ボリュームはブラウザページに換算すると計125ファイル(A4用紙換算で300頁相当)
★プロセスフロー図は計600

★ファイルはインターネットエクスプローラーなどのブラウザ形式なのでどんなPCでもOK
★トップページから各論へ自在にアクセス可能


MAIN CONTENT


プリンタブルTFTの種類、構造、製造プロセス(総論)
■有機TFT
  トップゲート・ボトムコンタクト型
  トップゲート・トップコンタクト型
  ボトムゲート・ボトムコンタクト型
  ボトムゲート・トップコンタクト型

■CNT(カーボンナノチューブ)-TFT
  ボトムゲート・ボトムコンタクト型
  ボトムゲート・トップコンタクト型

■ZnO系酸化物TFT
  トップゲート・ボトムコンタクト型
  ボトムゲート・トップコンタクト型(バックチャネルタイプ、透明バックチャネルタイプ)

プリンタブルTFTの製造プロセス(各論)
■ゲート電極形成プロセス
  表面改質プロセス、導電性ポリマー印刷プロセス、メタルインク・ペースト印刷プロセス、表面改質〜メッキ選択成膜プロセス

■ゲート絶縁膜形成プロセス

■半導体層形成プロセス
  表面改質プロセス、半導体形成プロセス(有機半導体層、CNT半導体層、ZnO系半導体層)

■ソース/ドレイン形成プロセス
  表面改質プロセス、導電性ポリマー印刷プロセス、メタルインク・ペースト印刷プロセス、CNTソース/ドレイン形成プロセス、表面改質〜メッキ選択成膜プロセス

■パッシベーション&コンタクトホール形成プロセス
  有機パッシベーション形成プロセス、有機&無機パッシベーション形成プロセス、ポリマーライクパッシベーション形成プロセス

■画素電極形成プロセス
  透明導電材料を用いる場合、反射メタル材料を用いる場合、塗布型材料(導電性ポリマー、CNT、ナノAg)を用いる場合

■アニール処理プロセス
  ポストアニール法、レーザーアニール法

■フレキシブル基板製酸化物TFT作製における注意点
 ・加工されたフレキシブルサブストレートを用いる場合
 ・元基板にTFT&デバイスを作製した後、プラスチックフィルムに転写する場合
 ・支持基板に樹脂膜を塗布・硬化後、TFT&デバイスを作製し、支持基板をリリースして樹脂膜を基板に用いる場合


▲パッシベーション&プラナリゼーション形成プロセス


▲有機TFTの構造


▲ソース/ドレイン&半導体層一括形成プロセス


▲SWCNT半導体層形成プロセス


▲塗布型有機半導体層形成プロセス


E ExpressならではのオリジナルCD-ROM

CD-ROM
発行:2017年5月1日
定価:総額18,000円(消費税込み)
販売元:イー・エクスプレス
お問い合わせ・申し込み先:TEL 090-4203-4633(担当:亀矢)
E-Mail:info@e-express.co.jp

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CD-ROM:絵で見るプリンタブルTFT製造プロセス
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Manufacturing process of a-Si TFT-LCD Manufacturing process of oxide-TFT
Manufacturing process of OLED Manufacturing process of OLED lighting device
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